用直流反应磁控溅射法在Si(100)基底上制备了TiN薄膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对其结构和形貌进行了表征,利用四探针测试仪测量了TiN薄膜的方块电阻,使用紫外可见分光光度计测定了薄膜反射率;研究了溅射沉积过程中氩气与氮气流量比对TiN薄膜结构及性能的影响.结果表明:在不同氩气与氮气流量比下,所制备薄膜的主要组成相是(200)择优取向的立方相TiN;随着氩气与氮气流量比的增加,薄膜厚度逐渐增大,而表面粗糙度与电阻率先减小后增大;当氩气与氮气流量比为15∶1时,薄膜表面粗糙度和电阻率均达到最小值;TiN薄膜的反射率与氩气与氮气流量比的关系不大.

所属栏目

试验研究国家自然科学基金重点资助项目(50730007)

收稿日期

2008/8/282008/12/31

作者单位

刘倩:南昌大学机电工程学院, 江西 南昌 330031
刘莹:南昌大学机电工程学院, 江西 南昌 330031
朱秀榕:南昌大学机电工程学院, 江西 南昌 330031
胡敏:南昌大学机电工程学院, 江西 南昌 330031

备注

刘倩(1982-),女,湖北武汉人,硕士研究生.

引用该论文:

LIU Qian,LIU Ying,ZHU Xiu-rong,HU Min.Influence of Ar and N₂ Flow Ratio on TiN Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering[J].Materials for mechancial engineering,2009,33(3):8～11
刘倩,刘莹,朱秀榕,胡敏.氩气与氮气流量比对磁控溅射法制备TiN薄膜的影响[J].机械工程材料,2009,33(3):8～11

被引情况:

【1】

王成磊,高原,卜根涛, "双层辉光等离子渗金属技术制备TiN渗层及其耐NaOH溶液腐蚀性能",机械工程材料 35, 74-77(2011)
参考文献

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