采用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了CNx薄膜, 通过改变氮气和氩气的流量比来调整CNx薄膜中的氮含量, 并采用XRD、HR-TEM、SEM、FTIR和显微硬度计等对薄膜的结构及其在300, 400, 500, 600 ℃下的高温抗氧化性能进行了表征。结果表明: CNx薄膜在400 ℃以下具有较好的抗氧化性能, 当氧化温度达到500 ℃后薄膜会发生严重氧化和分解; CNx薄膜中氮含量的增加有利于改善薄膜的高温抗氧化性能。
所属栏目
材料性能及其应用安徽理工大学青年教师资助项目
收稿日期
2013/4/82014/2/16
作者单位
陈向阳:安徽理工大学机械工程学院, 淮南 232001
张瑾:安徽理工大学机械工程学院, 淮南 232001
胡海霞:安徽理工大学机械工程学院, 淮南 232001
周哲波:安徽理工大学机械工程学院, 淮南 232001
备注
陈向阳(1979-), 男, 河南周口人, 讲师, 博士。
引用该论文:
CHEN Xiang-yang,ZHANG Jin,HU Hai-xia,ZHOU Zhe-bo.High Temperature Oxidation Resistance of CNx Thin Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering[J].Materials for mechancial engineering,2014,38(5):71～75
陈向阳,张瑾,胡海霞,周哲波.反应磁控溅射方法制备CNx薄膜的高温抗氧化性能[J].机械工程材料,2014,38(5):71～75
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