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铜箔形貌对石墨烯生长质量影响的表面氧化法评判
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    2014-01-24

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资料简介

采用简化的电化学抛光工艺得到了具有平整表面的铜箔,然后分别以电化学抛光前后的铜箔为基底,通过化学气相沉积法制备了石墨烯,利用原子力显微镜、光学显微镜、扫描电镜、电子能谱仪、拉曼光谱和I-V特性电学测试仪等研究了铜箔表面形貌与石墨烯质量的关联,并通过表面氧化法来判断石墨烯是否在基底上生长完全.结果表明:在抛光铜箔上生长的石墨烯缺陷较少、形貌完整,并且导电性能明显提高;表面氧化法可以快速准确判断石墨烯的生长质量.

所属栏目

试验研究国家自然科学基金资助项目(51002076,51375240);机械结构力学及控制国家重点实验室(南京航空航天大学)自主研究课题项目(0413Y02);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(NJ20140003)

收稿日期

2014/1/242014/12/26

作者单位

梁勇明:南京航空航天大学材料科学与技术学院,纳智能材料器件教育部重点实验室,机械结构力学及控制国家重点实验室,纳米科学研究所, 南京 210016
周建新:南京航空航天大学材料科学与技术学院,纳智能材料器件教育部重点实验室,机械结构力学及控制国家重点实验室,纳米科学研究所, 南京 210016
张芸秋:南京航空航天大学材料科学与技术学院,纳智能材料器件教育部重点实验室,机械结构力学及控制国家重点实验室,纳米科学研究所, 南京 210016

备注

梁勇明(1986-),男,广西桂林人,硕士研究生.

引用该论文:

LIANG Yong-ming,ZHOU Jian-xin,ZHANG Yun-qiu.Surface Oxidation Method Judging of the Effect of Cu Foil Morphology on Graphene Growth Quality[J].Materials for mechancial engineering,2015,39(7):25~30
梁勇明,周建新,张芸秋.铜箔形貌对石墨烯生长质量影响的表面氧化法评判[J].机械工程材料,2015,39(7):25~30


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【关键词】 化学气相沉积法 石墨烯 铜箔 表面氧化法  梁勇明 周建新 张芸秋

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